９月25日（金）に、本所 コンベンションホールにおいて、本所 非鉄金属資源循環工学寄付研究部門（JX金属寄付ユニット）の主催で、「半導体の未来に関するシンポジウム」が開催されました。会場に参加者を迎えて講演を行うとともに、その様子をZoom ウェビナーおよびYouTube ライブを用いて配信し、オンラインからの参加も可能としたハイブリッド形式での開催となりました。

　本所 岡部 徹 特任教授からの開会挨拶の後、本学 平本 俊郎 名誉教授、大学院工学研究科附属システムデザイン研究センター（d.lab）上席研究員より「先端半導体技術の動向：過去、現在と将来展望」、岡部特任教授から「半導体用、超高純度レアメタルについて」、JX金属株式会社 岡部 岳夫 執行役員、 先端材料事業本部薄膜材料事業部長（兼）先端材料事業本部データインフラ材料事業推進部長、技術本部審議役より「半導体用ターゲット材の開発と技術変遷」、筑波大学 物理学科 野上 毅 客員教授、株式会社トクヤマ 技術開発本部 フェローより「半導体素子微細化と、AI時代にも延命し続ける銅配線技術」と題して、それぞれ講演が行われました。講演会の最後には、JX金属株式会社 中村 祐一郎 常務執行役員 技術本部長より総括および講評が行われました。

　非鉄金属の関連企業を中心に産官学から、会場に約85名、オンラインから約250名の参加があり、活発な議論が行われました。さらに講演会終了後には研究交流会・意見交換会が開催され、大変盛況なシンポジウムとなりました。

（非鉄金属資源循環工学寄付研究部門　特任講師　鳴海 大翔）

左から、開会挨拶を行う岡部特任教授、講演を行う平本名誉教授、岡部特任教授の講演で用いられた超高純度レアメタルの一部

左から、講演を行う岡部執行役員 技術本部審議役と野上客員教授、総括および講評を行う中村常務執行役員 技術本部長

左から、講演者およびJX金属株式会社関係者の集合写真、
研究交流会・意見交換会で乾杯の発声をするJX金属株式会社 安田 豊 副社長執行役員、
講演会後の研究交流会・意見交換会の様子