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光で窒化シリコン薄膜の熱伝導率を倍増~半導体デバイスの高性能化につながる新たな放熱機構~
光で窒化シリコン薄膜の熱伝導率を倍増~半導体デバイスの高性能化につながる新たな放熱機構~

野村 政宏 准教授らの研究グループは、光とフォノンの混合状態である表面フォノンポラリトンを用い、窒化シリコン薄膜の熱伝導率を倍増することに成功した。高集積化の進んだ半導体デバイスでは、熱を運ぶフォノンが散乱されて放熱が困難になるため、高性能化に向けて新しい放熱機構や材料が求められている。新しい放熱機構として、半導体デバイスの高性能化への貢献が期待される。