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キラルイオンゲート技術を世界初実証――分子対称性によるトポロジカル表面磁性の超省電力制御に成功――
キラルイオンゲート技術を世界初実証――分子対称性によるトポロジカル表面磁性の超省電力制御に成功――

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東京大学 生産技術研究所の松岡 秀樹 特任助教と金澤 直也 准教授らの研究グループは、名古屋大学大学院理学研究科の須田 理行 教授、京都大学大学院工学研究科の関 修平 教授、東京大学大学院工学系研究科の岩佐 義宏 教授(研究当時)および 同大学国際高等研究所東京カレッジ十倉 好紀 教授と共同で、キラルなイオン液体を用いたゲートデバイスでトポロジカル強磁性表面の制御を行い、キラリティに由来するドメインの自発偏極を実証しました。
従来のEDLTはキラリティの無い分子を用いて行われてきましたが、本研究ではEDLTにキラルなイオン性分子を用いる「キラルイオンゲート」を世界で初めて提案・実証しました。
分子キラリティと磁性の結合をゲートデバイスに取り入れたことにより、省電力スピントロニクス実現に向けた新しい設計指針を与えます。